滤光片镀膜清洗方法有哪些？

在滤光片的制作过程中，对于镀膜滤光片而言，基底的清洗程度很大一方面决定了镀膜产品质量的好坏，保障好光学元件镀膜前的高洁净度，是滤光片制作过程最重要的一步。基底在进入镀膜前需要经过清洗处理达到去油、去污和脱水，才能有效提高膜层之间的牢固度。

以一般清洗行业，根据清洗剂不同一般分为湿式清洗和干式清洗，对于镀膜的滤光片行业而言，一般对镀膜前基底的清洗方式主要分为物理清洗与化学清洗，物理清洗为去除基底表面的附着物，如灰尘、粉尘。化学清洗即去除基底表面的化学附着物，即油迹。以下为光学滤光片的四种清洗方式！

一、擦拭清洗

一般擦拭清洗兼具机械摩擦与化学作用除污效果最好，滤光片在转入镀膜加工前，一般在擦拭清洗前配以超声波清洗几分钟，再用离子水在冲洗效果更好。

基底在经过抛光后，表面可能存在一些抛光后留下的粘附性颗粒物及油污，所以需要在镀膜前，需要将滤光片基底浸泡在丙酮或其他清洗剂一段时间，然后用脱脂棉蘸在基底表面进行擦拭。如锗、石英、蓝宝石等基地材料通常用蘸有丙酮的脱脂棉擦拭，再用蘸有清洗剂的脱脂棉擦拭清洗。

二、超声波清洗

超声波清洗一般采用超声空化作用、超声空化二阶效应产生的微声流进行洗刷，以及超声空化在固液界面产生高速微流进行冲击清洗，从而达到高速、高效、自动化清洗。滤光片在进行真空镀膜前对基底表面洁净度要求较高，一般需要根据污染物种类选择不同的超声波频率和不同的清洗介质，清洗频率一般多在20-80k Hz范围，同时对媒介进行加温，清洗介质可以符合选取张力小，对超声波衰减小，对油脂溶解力大，无害物质等条件的介质，或选择离子水、中性清洗剂、异丙醇、丙酮等。

三、汽相清洗（蒸汽清洗）

蒸汽清洗也叫有机溶剂蒸汽清洗，通过有机溶剂蒸发-液化冷凝到滤光片基底-溶解污物，从而达到清洗基底保持高洁净度的效果，蒸汽清洗装置的清洗槽经过有机溶剂141B加热沸腾后形成大量蒸汽，使得上部空间的有机溶剂蒸汽在基底冷凝液化，使得基底表面污物溶解，在重力作用下随着含有污垢的液体从被清洗的基底表面向下流动进入液相溶剂中。

四、离子束清洗

滤光片在镀膜前经过清洗后转入真空室过程时，在基底装入镀膜设备真空室和蒸镀前可能存在二次污染，这个过程就需要对基底进行最后一道离子束清洗，离子束清洗的原理便是通过高能离子束轰击下将吸附或粘附在基片上的污垢进行脱离或通过高热能氧离子氧化污物分子从而让污垢在离子碰撞下脱离基片。

镀膜前的滤光片清洗通常采用擦拭和超声波换用不同的清洁剂进行交叉清洗 ，再用离子水冲洗后辅以汽相清洗以满足镀膜前的清洁要求。